濺射靶材產(chǎn)品 金屬靶材
濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面。
濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。
根據(jù)形狀可分為長(zhǎng)靶，方靶，圓靶，異型靶
根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
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材料及符號(hào)
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純度
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規(guī)格
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純金靶(Au)
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3N,4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純銀靶(Ag)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純銅靶（Cu）
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3N,3N7,4N,5N,6N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，管狀靶
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純鋁靶(Al)
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4N,4N5,5N,6N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，管狀靶
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純硅靶(Si)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鈦靶(Ti)
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2N7,3N,4N,4N5
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，管狀靶
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純鎢靶(W)
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3N,3N5,4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鉻靶（Cr）
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2N5,2N8,3N,3N5
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，管狀靶
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純鉬靶(Mo)
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3N5
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鎳靶(Ni)
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3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鍺靶(Ge)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純銪靶(Eu)
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2N5,3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鈰靶(Ce)
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2N5,3N,3N5
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鎘靶(Cd)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純硼靶(B)
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3N,4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純釩靶(V)
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3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純釹靶(Nd)
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2N5,3N,3N5
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鎂(Mg)
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4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鉑靶(Pt)
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3N,4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純硒靶(Se)
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3N5,4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純銦靶(In)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鋅靶(Zn)
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4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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石墨靶(C)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純銻靶(Sb)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純錫靶(Sn)
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4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純碲靶(Te)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鉭靶(Ta)
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3N5
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鑭靶(La)
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2N5,3N,3N5
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鈮靶(Nb)
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3N,3N5
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鋯靶(Zr)
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2N5,2N8,3N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純鈀靶(Pd)
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4N,5N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純錸靶(Re)
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3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純錳靶(Mn)
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3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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純釕靶(Ru)
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3N,4N
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平面靶，圓柱靶，臺(tái)階靶
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