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    鉬管靶 鉬旋轉(zhuǎn)濺射靶材

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    全國

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     科威專利產(chǎn)品(專利號ZL200810104986.1）：鉬管靶 鉬旋轉(zhuǎn)濺射靶材

     

    鉬棒 鉬棒 鉬棒 鉬棒 鉬棒 鉬棒        
     
     
     
     
         

         濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。

         在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
         濺射鍍膜的主要應(yīng)用于：平板顯示器、鍍膜玻璃工業(yè)(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學(xué)薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質(zhì)、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。
     
         在旋轉(zhuǎn)靶領(lǐng)域，科威在09年率先提出一體式鉬管靶的概念，已經(jīng)得到了國內(nèi)外客戶的認可。可以根據(jù)用戶的要求提供以下尺寸的鉬濺射靶材:
     
     
          平面靶材: 單重:≤260kg, 純度:≥99.97%
          旋轉(zhuǎn)靶材-管靶: OD:Φ140-180mm;ID:Φ125-Φ135mm. 長度≤3300mm ,純度:≥99.97%
     
          化學(xué)成份
    鉬含量 其它元素含量總和 每種元素含量
    ≥99.97% ≤0.03% ≤0.001%



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