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PVA TePla 射頻等離子體設備/清洗機/去膠機
PVA TePla 公司的 IoN 40 射頻等離子體設備是為實驗室和生產(chǎn)領域設計的全功能的等離子體處理設備。該設備外觀簡潔,系統(tǒng)高度集成化,可應用與半導體、生物技術、電子、醫(yī)療、材料等各個領域。PVA TePla公司的高品質(zhì)、高性價比、操作簡單的等離子體設備為各種不同應用領域提供了最先進的創(chuàng)新解決方案,得到用戶的廣泛信賴。
型號:
IoN 40 (M4L 升級版), IoN 40Q, IoN 10Q, IoN 7B, IoN 3B, IoN 100(WB)
典型應用:
表面精密清潔
表面活化
提高表面粘合性
去除氧化層
去除光刻膠
改變表面親水性/疏水性
分子接枝
涂層
規(guī)格參數(shù):
13.56MHz風冷射頻電源(0~600w可調(diào),可選0~300W)
高靈敏快速自動匹配功能
陽極表面處理鋁制腔體
內(nèi)部尺寸:229×330×483mm(36.5L)
水平抽卸極板/垂直極板/側壁極板/水冷極板/料盒電極/籠式電極
不銹鋼防腐蝕MFC
多至6路工藝氣體
2路驅(qū)動氣體
快/慢回填氣體
PC工控機控制,運行數(shù)據(jù)自動存儲
觸控屏圖形化界面,運行狀態(tài)實時顯示
外形尺寸:775×723×781 mm
可選配置:
法拉第桶
壓力控制系統(tǒng)
水冷系統(tǒng)
真空泵(旋片泵、干泵、渦旋泵)
認證:
CE 認證
EN 61010
EN 61326
Semi E95
USP Class VI
FDA CFR Title 21 Part 11
CISPR 55011
ISO 9001
NFPA79
NFPA70
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