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    ICP等離子刻蝕機(jī) 干法等離子刻蝕設(shè)備

    產(chǎn)品品牌

    超邁光電

    發(fā)貨期限：

    60天天

    庫(kù)       存：

    5

    產(chǎn)       地：

    中國(guó)-四川省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
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    品牌：超邁光電

    型號(hào)：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-刻蝕設(shè)備-反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕，包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。
    1.氣體種類：O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等

    2.基片尺寸：zui大支持8英寸，并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片

    3.射頻電源     ICP電源：13.56MHz，1400W; 偏壓電源：13.56MHz，800W

    4.工藝溫度：10℃到80℃可控

    5.傳送模式：自動(dòng)Loadlock傳送系統(tǒng)

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