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光刻(photoetching or lithography)是通過一系列生產(chǎn)步驟,將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。在此之后,晶圓表面會留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。通過光刻工藝過程,最終在晶圓上保留的是特征圖形部分。
公司提供電子束光刻、激光直寫、步進式光刻、接觸式光刻、硬掩膜光刻等光刻技術(shù),線寬最小可達10nm,多種光刻結(jié)合的先進光刻理念,實現(xiàn)了不同尺寸的光刻需求。
服務流程:
客戶提出功能要求;
設(shè)計工程師進行結(jié)構(gòu)、尺寸和工藝設(shè)計;
確認設(shè)計方案、制備周期和價格;
開始制備;
交付產(chǎn)品。
商家資料
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