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江蘇英特神斯科技有限公司MEMS加工平臺位于南京浦口高新技術開發(fā)區(qū),平臺建于2009年,擁有100級凈化廠房40平方米,1000級凈化廠房300平方米。MEMS加工平臺擁有國內一流的MEMS前道加工設備、技術和人才,面向國內和全球客戶,提供完整的MEMS器件設計加工服務。
光刻工藝
光刻工藝一般包括前處理、勻膠、對準曝光、顯影、烘干等工藝步驟
光刻設備型號:EVG620 雙面光刻機
對準精度(20X目鏡)
正面0.5um 背面1.0um
處理晶圓尺寸:
襯底直徑150mm,襯底厚度0.1~10mm
勻膠設備
EVG150 全自動涂膠機
國產 KW-4A 手動勻膠機
顯影設備
Mask Cleaner
設備型號:Ultratech 603
100級潔凈烘箱/HDMS烘箱
SRD甩干機
設備型號:SemiTool ST 470F / ST 870
鍵合工藝
可進行的鍵合類型:陽極鍵合、共晶鍵合、焊料鍵合、硅硅鍵合(預鍵合)、玻璃-玻璃鍵合。
鍵合機型號:EVG 520IS
處理晶圓尺寸:襯底直徑150mm
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