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    包郵 關(guān)注:958

    磁控濺射設(shè)備

    應(yīng)用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-磁控濺射機

    產(chǎn)品品牌

    KLTC

    庫       存：

    1000

    產(chǎn)       地：

    中國-上海市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：KLTC

    型號：

    所屬系列：半導體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-磁控濺射機

    電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
    用途
    • 研發(fā)電子束沉積
    • 剝離蒸發(fā)
    • 陰影蒸發(fā)
    • 光學膜
    • 超導體的發(fā)展
    特點
    • 最優(yōu)化的電子束蒸發(fā)工藝
    • UHV 兼容設(shè)計
    • 便于開啟的腔室，易于操作的沉積源
    • 模塊化樣品臺
    • 固態(tài)電源電子束源與離子源控制系統(tǒng)
    • 控制軟件
    • 高真空渦輪分子泵
    功能選項
    · 可升級到低溫泵或磁懸浮渦輪泵超高本底真空泵
    · 可升級到干式粗抽泵
    · 基片旋轉(zhuǎn)，加熱，冷卻和偏壓功能
    · 反應(yīng)氣體進氣
    · 離子源(輔助沉積或刻蝕)
    · 可調(diào)節(jié)的基片與蒸發(fā)源距離
    · 可升級進樣室功能
    · 高功率電子束源
    · 上游或下游壓力控制

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