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    NXQ紫外光刻機NXQ4006

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    產品品牌

    NXQ

    規(guī)格型號：

    套

    發(fā)貨期限：

    3個月天

    庫       存：

    1

    產       地：

    美國

    數       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌：NXQ

    型號：套

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

     恩科優(yōu)（NXQ）4000系列半?自動掩膜對準曝光系統，融合了獨立的模塊化設計，精準控制對準和曝光等特點。自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用，適合實驗室多用戶使用。該系統以其卓越的性能，經濟的價格，深受全球用戶喜愛，截止2011年底，超過4000臺NXQ光刻機遍布全世界的科研實驗室、研發(fā)中心和工業(yè)生產線。
    系列型號（根據曝光基片的尺寸范圍選擇合適的型號）
    NXQ4006 半自動型（可處理最大到6英寸的基片）
    NXQ4008 半自動型（可處理最大到8英寸的基片）
    適用領域（包括但不限于下述領域的光刻工藝）
    微電子
    LED/HB LED
    3D IC/晶圓制造工藝
    2.5D Interposer
    MEMS
    BioMEMS
    微流控芯片
    化合物半導體
    太陽能（HCPV）
    光電子
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