業(yè)界知名的曝光機(jī)制造商ABM, Inc. 為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，被廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程，光波導(dǎo)，光柵，微機(jī)電MEMS，LD,二極管芯片，發(fā)光二極體（LED）芯片制造，顯示面板LCD，光電器件，奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。ABM曝光機(jī)在全球知名的大學(xué)，研發(fā)中心，產(chǎn)學(xué)研結(jié)合單位以及大批量生產(chǎn)之工廠均擁有廣泛應(yīng)用的客戶群體。
美國ABM, Inc. 成立于1986年，總部位于加州矽谷，至今服務(wù)于半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)超過25年。 ABM, Inc，除美國總公司外，旗下全球分支之ABM, Inc. Asia Pacific Ltd.更在香港設(shè)立直接銷售及工藝研發(fā)中心并配有class100之超凈實驗室，旨在更好地直接對話并提供更專業(yè)的售前/后技術(shù)服務(wù)于中國大陸地區(qū)的廣大客戶。
高精度紫外單面光刻機(jī)
高精度紫外雙面光刻機(jī)
高精度曝光光源
以上機(jī)型均可以根據(jù)需要選擇手動，半自動，全自動三種機(jī)型
本公司也可以實現(xiàn)大尺寸曝光光源12英寸-26英寸的機(jī)型，如有需要歡迎聯(lián)系我們：
聯(lián)系人：孫先生 13916786084 jack@abmasia.com.hk
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