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    包郵 關(guān)注:426

    OAI 5000E型光刻機(jī)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    OAI

    庫       存：

    10000

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    型號5000E大面積光刻機(jī)用于基板和顯示器

    OAI 5000E型大面積掩光刻機(jī)是一種先進(jìn)的高性能，全自動掩模對準(zhǔn)器和曝光工具，可為大型平板應(yīng)用提供超精密，頂級，亞微米對準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達(dá)300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機(jī)控制的LED顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。

    Model 5000E Large Area Mask Aligner for Substrates and Displays

    光刻機(jī)Model5000e Mask AlignerThe OAI Model 5000E Large Area Mask Aligner is an advanced, high-performance, fully-automated mask Aligner and exposure tool that delivers ultra precise, Topside, sub-micron alignment and resolution for large, flat panel applications. Its flexible design allows printing on various substrates - round or square - up to 300mm or 20”x20”. The exposure system is compatible with photo resist in Near, Mid, or Deep UV range, and features computer-controlled LED microscope lighting for viewing in less-than-ideal viewing environments. 

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