德國(guó)海德堡激光直寫(xiě)光刻機(jī)μPG 101

適合用于科研領(lǐng)域
臺(tái)式激光直寫(xiě)機(jī)
操作簡(jiǎn)單，可支持灰度光刻

μPG101是一款經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且易于操作的圖形發(fā)生器，適用于直寫(xiě)和少批量的掩模板制作。該系統(tǒng)可用于MEMS、Bio MEMS、Integrated Optics、Micro Fluidics或任何其他需要高精度、高分辨率微結(jié)構(gòu)的制作。

μPG101的面積僅為60x75cm²，設(shè)計(jì)精巧，將所有電子組件集成在系統(tǒng)中，由系統(tǒng)控制主機(jī)運(yùn)作?；赪indows®的控制接口，使用戶可以輕松進(jìn)行數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)文件，經(jīng)過(guò)手動(dòng)或自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)之后，即可開(kāi)始曝光。

μPG101主要提供簡(jiǎn)單快速的方式來(lái)創(chuàng)建微結(jié)構(gòu)。系統(tǒng)可透讀寫(xiě)模塊的更換，以滿足不用的分辨率和寫(xiě)入速度的要求。它是市面上唯一達(dá)到亞微米結(jié)構(gòu)的桌上型光刻系統(tǒng)，即使是偏小網(wǎng)格，依然具有非常高精度的結(jié)構(gòu)。實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)可在曝光期間實(shí)時(shí)監(jiān)控和校正聚焦位置，從而確保整個(gè)曝光區(qū)域的高分辨率和可重復(fù)性。精密網(wǎng)格和實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦裝置是專業(yè)微圖型發(fā)生器的標(biāo)準(zhǔn)要求。

μPG101的應(yīng)用包括 Life Science 、MEMS 、 Semiconductor 、Sensors、Actuators、MOEMS、Material Research、Nano-Tubes、Graphene以及任何其他需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用。

功能

寫(xiě)入速度高達(dá)90毫米²/分鐘

基板6 x 6”

降至0.6µm結(jié)構(gòu)

標(biāo)準(zhǔn)或紫外光源

多種數(shù)據(jù)輸入格式

基本灰度曝光模式

對(duì)準(zhǔn)攝像系統(tǒng)

多種可交換的寫(xiě)模式

矢量和柵格曝光模式

德國(guó)海德堡Heidelberg 激光直寫(xiě)光刻機(jī)μPG 101

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

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