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    包郵 關(guān)注:678

    瑞士NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-電子束曝光機

    產(chǎn)品品牌

    瑞士NanoFrazor

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:瑞士NanoFrazor

    型號:

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-電子束曝光機

     

    瑞士NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機 

    源自IBM最新研發(fā)成果      

        NanoFrazor納米3D結(jié)構(gòu)直寫機的問世,源于發(fā)明STMAFMIBM蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的最新研究成果。NanoFrazor納米3D結(jié)構(gòu)直寫機第一次將納米尺度下的3D結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
        NanoFrazor采用尖端直徑為5nm的探針,通過靜電力精確控制實現(xiàn)直寫3D高精度直寫,并通過懸臂一側(cè)的熱傳感器實現(xiàn)實時的形貌探測。相對于其他制備技術(shù)如電子束曝光/光刻技術(shù)(EBL), 聚焦離子束刻蝕(FIB)有以下特點:
       ■   3D納米直寫能力
             高直寫精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)
             高速直寫 20 mm/s 與EBL媲美 
       ■   無需顯影,實時觀察直寫效果
             形貌感知靈敏度0.1nm
             樣品無需標(biāo)記識別,多結(jié)構(gòu)套刻,對準(zhǔn)精度 5nm 
       ■   無臨近效應(yīng)
             高分辨,高密度納米結(jié)構(gòu)
       ■   無電子/離子損傷
             高性能二維材料器件
       ■   區(qū)域熱加工和化學(xué)反應(yīng)
             多元化納米結(jié)構(gòu)改性
       ■   大樣品臺
     
             100mm X 100mm
     
     新產(chǎn)品發(fā)布:NEW??!  NanoFrazor Scholar --小面積直寫
         ■   3D納米直寫能力
             高直寫精度 (XY: 30nm, Z: 1nm)
             高速直寫 10 mm/s 
       ■   無需顯影,實時觀察直寫效果
             形貌感知靈敏度0.1nm
             樣品無需標(biāo)記識別,多結(jié)構(gòu)套刻,對準(zhǔn)精度 10 nm 
       ■   無臨近效應(yīng)
             高分辨,高密度納米結(jié)構(gòu)
       ■   無電子/離子損傷
             高性能二維材料器件
       ■   區(qū)域熱加工和化學(xué)反應(yīng)
             多元化納米結(jié)構(gòu)改性
       ■   小樣品臺
             30mm X 30mm
     
     
     

     
    獨有的直寫針尖設(shè)計
        
        普通的AFM針尖無法滿足上述NanoFrazor直寫流程的需求,因此NanoFrazor所用針尖是由IBM專門研發(fā)設(shè)計的。該針尖具有兩個電阻加熱區(qū)域,針尖上方的加熱區(qū)域可以加熱到1000oC。 第二處加熱區(qū)域作為熱導(dǎo)率傳感器位于側(cè)臂處,其能感知針尖與樣品距離的變化,精度高達0.1 nm。因此在每行直寫進程結(jié)束后的回掃結(jié)構(gòu)時,并不是通過針尖 起伏反饋形貌信息,而是通過熱導(dǎo)率傳感器感應(yīng)形貌變化,從而實現(xiàn)了比AFM快1000余倍的掃描速度,同避免了針尖的快速磨損消耗。
     

     
    NanoFrazor技術(shù)特點
       

     

    其他功能

    ● 納米顆粒有序定位排列

    ● 納米局部化學(xué)反應(yīng)誘導(dǎo)

    ● 表面化學(xué)圖案、結(jié)構(gòu)生成
    納米顆粒有序定位排列 
     氧化石墨烯的定位還原
      
     

    圖形轉(zhuǎn)移

        通過NanoFrazor3D納米結(jié)構(gòu)直寫機獲得的納米圖形結(jié)構(gòu),可以通過傳統(tǒng)成熟的工藝技術(shù),如干法刻蝕,電鍍、注射成型法等進行圖形轉(zhuǎn)移。
     
      
     
     應(yīng)用領(lǐng)域      

    快速原型設(shè)計開發(fā)

    ● 衍射透鏡,全息圖

    ● 非球面微透鏡陣列

    ● 波導(dǎo)纖維、光子晶體

     MEMS/NEMS

    ● 表面等離子激元,超材料

    ● 納米磁學(xué)

    ● 納米電子器件

    ● 生物細胞研究

    ● 納米流體控制

    ● 反物質(zhì)物理學(xué)
     

    微納結(jié)構(gòu)

    ● 防偽標(biāo)識

    ● DFB 激光、

    ● ASICs 的關(guān)鍵部位加工

    模板加工

    ● 光掩模板

    ● 納米壓印印章

    ● 注射成型模具

     


     
      

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