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    包郵 關注:606

    PVA TePla 射頻等離子體刻蝕系統(tǒng)

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-刻蝕設備-其它刻蝕設備

    產品品牌

    PVA TePla

    規(guī)格型號:

    射頻等離子體設備

    庫       存:

    1000

    產       地:

    美國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:PVA TePla

    型號:射頻等離子體設備

    所屬系列:半導體加工設備-刻蝕設備-其它刻蝕設備

     PVA TePla等離子體處理設備/刻蝕系統(tǒng)RIE/

    型號:IoN 10V

    應用:
    倒裝清洗
    刻蝕鈍化層
    光刻膠去除
    低溫灰化
    SU-8去除
    殘膠去除
    晶圓封裝清洗
    晶圓表面預處理
    涂層 
    表面修飾

    射頻功率:13.56MHz,0-600W(可選0-300W,0-1000W)

    載盤尺寸:13‘’(12寸晶圓),9‘’(8寸晶圓)
    腔體體積:約7L
    工藝氣體:標配2路,可擴展至4路。
    氣體種類:O2,CF4,Ar,C4F8,N2,CH4,N2O,N2,Air等
    腔體材質:鋁(可選不銹鋼)
    配備自動壓力控制系統(tǒng)

    選配:
    溫控盤(0-80度,或50-200度)

     
    認證: 
    CE Certified 
    EN 61010 
    EN 61326 

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